设备或产品的密封性能相对允许泄漏率来讲的。不同的设备需要不同的功能和不同的气密性要求，因此允许的泄漏率也不同。这个允许的泄漏率通常是通过设计设计的根据设备对气密性的要求，经过仔细考虑和计算，提出了人员。允许泄漏率不仅是具有气密性要求的设备的主要设计指标，也是检测设备泄漏的基础。那么，如何计算允许泄漏率值呢？，以下是一些典型的情况。
⑴动态真空系统的允许泄漏率
所谓动态真空系统，是指泵在工作过程中仍在泵送的系统，如真空熔炼炉、真空镀膜机、粒子加速器等。动态真空系统通常使用泵送速度较快的泵来获取和维持真空。因此，由于系统上有较大的漏孔，仍然可以工作，因此对气密性的要求相应降低。然而，一旦该系统与泵分离，真空度将急剧下降。该系统的允许泄漏率可通过气体流量稳定关系计算。在空载条件下，当系统达到动态平衡时，单位时间进入系统空间的气体量必须等于泵取出的气体量。此时的平均压力是系统能够达到的极限压力p0。根据流量稳定的关系，有流量稳定的关系Q=Sp0式中Q=气流，包括漏气和放气两部分，即Q=QL+QFS=泵对系统的有效抽速。
在设计真空系统时，如果泵对系统的有效抽速S 确定，要求系统达到的极限压力p0
也已知，那么系统允许的气体流量[Q ]为[Q ]≤ Sp0
一般选取[Q ]的1/10的作为允许漏率[ QL]。那么，动态系统的允许漏率应为：
[QL ]=1/10[Q ] ≤1/10S.P0
【例如】一台镀膜机，对蒸发室的有效抽速S 为100L/s，要求达到的极限压力p0 为1×10-5Pa，那么该镀膜机的允许漏率
[QL]=1/10(S×p0)=1/10×100×1×10-5 =1×10- 4（Pa·L/s）=1×10- 7（ Pa·m3/s）
⑵ 静态真空系统的允许漏率
所谓静态真空系统，即工作时已与泵隔离的真空系统，一般又称密闭容器或密闭器件，如显像管、电子管等。
静态系统的持点是：体积小，要求的极限压力较低，而且要求在与真空泵隔离后的相当长时间内，其真空度仍能满足工作要求，即寿命长。因此这种系统对漏气和放气的要求都是很高的。假设不考虑封闭系统中加有的消气剂的抽气作用，设器件封离时的压力为P0，保证器件正常工作所需的Z高压力为Pt，器件的内腔容积为V，器件封离后保存和工作的时间为t，那么器件所允许的总气载[Q]（漏气和放气）应为[Q ] ≤V×(P0-Pt)/t
取器件的允许漏率[ QL]为[Q ]的1/10，即[Q L] =1/10[Q ]≤(0.1×V×(P0-Pt))/t
【例如】某只电子管，其内腔容积为0.1L，封离时的压力p0 为1×10-4Pa，电子管正常工作的Z高压力pt 为1×10-1Pa，要求器件保存和工作时间t 为10000h。那么，该电子管允许漏率应为
[Q L] ≤0.1×V×(P0-Pt)/t=(0.1×0.1×(1×10-2 -1×10-4))/10000×3600=2.8×10-10Pa.L/S
